一、PVD鍍膜設備有哪些？

PVD即物理氣相沉積，是當前國際上廣泛應用的先進的表面處理技術。其工作原理就是在真空條件下，利用氣體放電使氣體或被蒸發物質部分離化，在氣體離子或被蒸發物質離子轟擊作用的同時把蒸發物或其反應物沉積在基材上。

它具有沉積速度快和表面清潔的特點，特別具有膜層附著力強、繞性好、可鍍材料廣泛等優點。

采用全球先進的磁控濺射離子鍍膜和多弧離子鍍膜工藝設備，及在此基礎之上與國際專家的工藝創新。

憑借在裝飾鍍行業十多年的寶貴經驗，為客戶提供最適合的涂層加工方案。------------優普萊等離子體

二、國內鍍膜（PVD）設備發展現狀如何？

現在介紹下半導體晶圓制造流程之一的PVD工藝的產業鏈及設備供應商。這也是為什么中微公司（688012）從65元漲到200元，北方華創（002371）2019年從不到40元漲到129元。

薄膜沉積是晶圓加工中的關鍵流程之一，主要分為：物理氣相沉積 PVD和化學氣相沉積 CVD。

物理氣相沉積的過程中不發生化學反應，只發生物質的相變等物理變化，如蒸鍍過程是將固態蒸鍍源轉換為氣態，再在目標表面形成固態膜的過程。而化學氣相沉積 CVD 則通過化學反應進行，將反應源以氣體形式通入反應腔中，經過與其他外部反應物或與基板進行化學反應形成目標生成物沉積于基板上。以上工藝均使用特定的CVD設備以及PVD設備。

PVD工藝一般可分為三種：真空蒸鍍、濺射鍍膜和離子鍍。

芯片制造過程中沉積不同薄膜所使用的PVD設備也不同，關鍵的PVD設備主要包括：硬掩膜（Hard Mask ）PVD設備、銅互聯（CuBS）PVD 以及鋁襯墊（Al PAD）PVD。

1、硬掩膜PVD：設備應用廣泛 國內技術成熟

硬掩膜工藝可以為金屬互連線的形狀提供精準控制，在集成電路制造中十分關鍵。低介電材料氮化鈦（TiN）作為硬掩膜材料應用廣泛。TiN 掩膜材料沉積對PVD設備的要求較高，其獨特的甚高頻技術，在中性應力和薄膜密度硬度之間達到了良好的平衡，從而提高產品良率，制造出高密度、低應力的薄膜。

國內企業方面，北方華創（002371）的 exiTin H430 TiN 金屬硬掩膜PVD是國內首臺專門針對 40nm以下制程的12寸金屬硬掩膜設備。該系統主要由大氣平臺、真空傳輸平臺、兩個去氣腔室和兩個工藝腔室組成，并可以實現自動生產。該設備系統的研發和量產實現了我國高端集成電路PVD設備零的突破和技術跨越。該機臺也成為國內首臺28nm工藝后段金屬布線硬掩膜標準制程機臺，并進入國際供應鏈體系，同時通過了半導體行業SEMIS2及F47 認證。

2、銅互聯（CuBS）PVD設備：成功打破AMAT壟斷 邏輯產線訂單空間巨大

銅互連是硅芯片制造中的關鍵工藝。金屬銅由于具有更小的電阻率，可以有效地降低互連線的電阻，同時電遷移壽命比傳統的 Al 互連高兩個數量級，可以提升芯片可靠性，目前已經被廣泛應用。在制作銅互連線時，常采用大馬士革工藝。

沉積阻擋層和銅種籽層是大馬士革工藝的關鍵步驟，且沉積過程中所需要的設備是CuBS PVD。

目前銅互連PVD設備約占整個PVD市場規模的70 %左右，是最為核心的設備之一，AMAT 技術領先壟斷市場，但國內廠商北方華創（002371）目前已經取得重大突破，成功打破壟斷。

AMAT在銅互連設備中十分領先，其Endura CuBS RFX PVD系統，是一款可用于32nm及22nm邏輯器件及閃存器件制程中銅沉積的設備。據中國國際招標網，截止到2019年12月，長江存儲共采購銅互連設備約7臺且均由AMAT提供。國內廠商北方華創（002371）在 2020年 1月10日成功中標3臺長江存儲設備訂單，成功打破壟斷。成為繼AMAT之后第二家掌握銅互連PV設備技術的公司。

未來隨著中芯國際、華虹系等持續擴產，國產CuBS設備潛在訂單空間巨大。

3、Al Pad PVD：產線占比小 國產化程度高

Al Pad（鋁襯墊），通常采用物理氣相法進行沉積。Al Pad是晶片與外界連接的互連截面，同時也是集成電路的最后一道工序。其通常是采用物理氣相沉積工藝在晶片的頂層金屬層表面形成鋁薄膜層，然后利用光刻和刻蝕工藝進行處理形成對外的接連線，作為測試電性和封裝的引線端，從而形成鋁襯墊。

Al Pad PVD主要應用于Bond pad和Al interconnect工藝，對設備的高產能、高效率、低成本、低缺陷提出了更高的要求。由于Al Pad制備只在晶圓制造流程中最后一步才會進行一層沉積，因此在產線中占據比例較小，但內資產線此類設備的國產化率較高。國內廠商北方華創（002371）的 Al PAD PVD 已進入60-28nm產線，且14nm產線正加速驗證。

內資PVD需求空間達80億

晶圓制造設備約占半導體設備投資額的80%，而成膜設備則占晶圓投資設備的20%，一般來說PVD設備與CVD設備占比接近，各10%。

在PVD設備領域，AMAT一家獨大，約占全球市場份額的80%以上，但目前國內廠商也在不斷突破。選取長江存儲、華虹無錫、華力微三條產線統計，對PVD設備的國產化率情況進行預估：AMAT在內資產線中占比約81%，北方華創（002371）是內資產線中PVD設備的主要供應商，占比約10%，隨著公司 CuBS PVD 設備成功出貨打破壟斷，未來PVD設備的國產化率有望進一步提升。

新突破的 CuBS PVD設備未來市場規模巨大，預計中芯國際、華虹系、合肥長鑫（一期）以及長江存儲（一期）產線從現在到最終達產對該類設備市場需求規模可超過 40億元。其中邏輯芯片代工產線是未來CuBS 的重要拉動力量，其對 CuBS PVD 需求量是同產能存儲器產線的4-5 倍，邏輯代工產線達到月產能10萬片預計需要超過40臺 CuBS PVD 設備。

三、pvd鍍膜工藝？

PVD（Physical Vapor Deposition）鍍膜技術是制備薄膜材料的主要技術之一，在真空條件下采用物理方法，將某種材料氣化成氣態原子、分子或部分電離成離子，并通過低壓氣體（或等離子體）過程，在基板材料表面沉積具有增透、反射、保護導電、導磁、絕緣、耐腐蝕、抗氧化、防輻射、裝飾等特殊功能的薄膜材料的技術。

用于制備薄膜材料的物質被稱為 PVD鍍膜材料。濺射鍍膜和真空蒸發鍍膜是最主流的兩種 PVD 鍍膜方式。

四、PVD鍍膜調色工藝？

說到底是折射率和厚度兩個參數，可以通過真空度，氣體，功率，鍍膜時間來控制。

五、pvd鍍膜吃香嗎？

吃香的。

PVD真空鍍膜有其獨特的優勢，因此市場前景廣闊。PVD膜層具有高硬度、高耐磨性（低摩擦系數）、很好的耐腐蝕性和化學穩定性等特點、表面細膩光滑并富有金屬光澤同時顏色均勻一致，大幅度提高工件的外觀裝飾性能。

PVD膜層的厚度為微米級，厚度較薄，一般為0.2μm ～ 5μm，其中裝飾鍍膜膜層的厚度一般為0.2μm ～ 2μm ，因此PVD真空鍍膜廠家可以在幾乎不影響工件原來尺寸的情況下提高工件表面的各種物理性能和化學性能。PVD膜層抵抗力強，在常規環境下具有抗氧化、不褪色，不失去光澤、耐磨損、耐刮擦、不易劃傷，且可鍍材料廣泛，與基體結合力強。

六、pvd鍍膜真空要求？

在PVD鍍膜設備的真空度測量中，需要用到真空規來對被研究的稀薄氣體壓力進行比較精確的測量，此間，必須考慮以下三個問題：

振華真空多弧離子鍍膜設備

1、首先，要先對被研究的對象有基本的了解，需要涉及以下問題：

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（1）所處環境溫度：是否等溫？屬于低溫還是高溫？

（2）氣流的狀態：氣流是瞬態還是穩態？屬于均勻性氣流或是非均勻性氣流？

（3）氣體性質：是否為可凝蒸氣？屬于混合氣體還是單一氣體？是不是具有腐蝕性的氣體？是活潑氣體還是惰性氣體？

（4）是否存在電場、磁場、輻射、加速度、沖擊、振動、帶電粒子等特殊環境條件

七、金屬pvd鍍膜怎么調色？

關于這個問題，金屬PVD鍍膜的調色需要根據具體的情況進行處理，一般可以通過改變鍍膜的沉積時間、溫度、氣體成分等因素來調整顏色。此外，還可以通過在金屬表面進行化學處理或使用特殊的涂料來改變顏色。具體操作建議咨詢專業的PVD鍍膜廠家或技術人員。

八、PVD真空鍍膜工藝？

PVD鍍膜(離子鍍膜)技術，其具體原理是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術，利用氣體放電使靶材蒸發并使被蒸發物質與氣體都發生電離，利用電場的加速作用，使被蒸發物質及其反應產物沉積在工件上。

PVD鍍膜膜層的特點,采用PVD鍍膜技術鍍出的膜層，具有高硬度、高耐磨性(低摩擦系數)、很好的耐腐蝕性和化學穩定性等特點，膜層的壽命更長;同時膜層能夠大幅度提高工件的外觀裝飾性能。

九、pvd酒紅色鍍膜方法？

pvd酒紅色鍍膜在量產化過程中，為追求鍍膜的大批量生產，通常將待鍍物置于行星式公轉轉架上，蒸發源或濺射源等沉積裝置于公轉轉架的外側，通過360循環轉運轉架，使待鍍物依次循環經過沉積源有效區，從而將鍍膜在待鍍物表面進行沉積。鍍膜的性能不僅與其成分、顯微結構息息相關，還與薄膜的厚度有關。例如，在光學干涉薄膜領域，鍍膜呈現的顏色對介質層厚度非常敏感，介質層厚度上微小的差異(如十幾個納米)都會使薄膜呈現不同的顏色。因此，在公轉型鍍膜機的薄膜制備過程中，精準控制膜層厚度，并有效控制整爐薄膜厚度均勻和一致是十分必要的。

目前，常用的方法是控制鍍膜厚度均勻性的方法是依照調試經驗設定目標膜厚所需的沉積源開啟時間。然而，傳統控制沉積源開啟時間的方法，常因計時器誤差等原因導致無法保證在沉積源開啟時間內轉架上的待鍍物經過沉積源有效區的時間相同，從而影響膜層厚度的均勻性，從而導致鍍膜酒紅色顏色不均勻。

十、pvd鍍膜和pvdf區別？

1、性質不同：pvdf是涂料一次施涂所得到的固態連續膜。pvd鍍膜是當光線進入不同傳遞物質時（如由空氣進入玻璃），大約有5% 會被反射掉。

2、特點不同：現代光學透鏡通常都鍍有單層或多層氟化鎂的增透膜，單層增透膜可使反射減少至 1.5%，多層增透膜則可讓反射降低至 0.25%。涂料可以為氣態、液態、固態，通常根據需要噴涂的基質決定涂料的種類和狀態。

3、應用不同：pvdf應用在蒙皮涂層，發動機涂層上。pvd鍍膜常用在相機鏡頭、近視、遠視、老花鏡等矯正眼鏡上使用。